賽默飛氫氧化鉀淋洗液罐EGC 500 KOH
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產品名稱: 賽默飛氫氧化鉀淋洗液罐EGC 500 KOH
產品型號: 075778
產品展商: 戴安Dionex
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簡單介紹
賽默飛氫氧化鉀淋洗液罐EGC 500 KOH
利用淋洗液生成功能，防止基線漂移、提高靈敏度、改善分離度并確保一致的峰積分。有各種 Thermo Scientific? Dionex? EGC 淋洗液發生罐可供生成氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽和甲磺酸淋洗液。淋洗液自動生成消除了傳統的 IC 淋洗液制備方法中對于酸和堿的處理需求，并且允許色譜分析工作人員運行全范圍的梯度和等度分離，且效率比手工制備淋洗液更高。
賽默飛氫氧化鉀淋洗液罐EGC 500 KOH
的詳細介紹
賽默飛氫氧化鉀淋洗液罐EGC 500 KOH
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適用于
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Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統
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類型
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氫氧化鉀淋洗液發生罐
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流速
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0.01-3.00 mL/min.
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壓力
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*大值：34.5 MPa (5000 psi)
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溶劑
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EGC 500 KOH：25% 甲醇，EGC 500 MSA：無有機溶劑
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濃縮
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0.1 至 100 mM
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描述
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Dionex EGC 500 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐
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Unit Size
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Each
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戴安離子淋洗液發生器資料
淋洗液發生器部件及配件
淋洗液
陰離子分析用淋洗液
碳酸鈉/碳酸氫鈉：手動配制
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063965
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PROD,RGNT,EL,AS22
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064161
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PROD,RGNT,EL,AS23
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氫氧化鉀：在線產生
需要淋洗液罐和捕獲柱
陽離子分析用淋洗液
甲磺酸：手動或在線產生
在線產生需要淋洗液罐和捕獲柱
糖和氨基酸分析用淋洗液
氫氧化鈉和醋酸鈉
我們的發生灌可以電解產生高純度氫氧化物、碳酸鹽和甲磺酸淋洗液，適用于等度和梯度運行。在 Thermo Scientific Dionex Reagent-Free 離子色譜系統（RFIC）中，只需加水即可取得出色結果。
淋洗液發生灌
無需手動制備淋洗液。淋洗液發生灌可以電解產生高純度氫氧化物、碳酸鹽和甲磺酸淋洗液，適用于 RFIC 系統上的等度和梯度運行。您只需加水即可。
自動生產高純度洗脫液
與 Thermo Scientific Dionex ICS-5000+ HPIC、ICS-6000 和 ICS-2100 系統配合使用
用于等度或梯度分離
Dionex EGC 400 純化柱僅用于在雙 EGC 模式下供 Dionex ICS-6000 HPIC 系統執行復雜碳水化合物分析
獲得出色的批次間可重現性
免除了對酸和堿的處理減少泵維護并延長使用壽命；泵只會遇到去離子水
使用通常用于毛細管柱標準孔的各種流速
與可承受高達 5000 psi 壓力（34.5 MPa，** Dionex EGC 毛細管型和 EGC 500）的高壓離子色譜系統配合使用
產品特點
Dionex EGC III 和 EGC 500 純化柱在 1.0 mL/min 下支持的濃度范圍為 0.1–100 mM (0.1–80 mM EGC III LiOH)
Dionex KOH、NaOH 和 LiOH 純化柱支持*高濃度達 25% 的甲醇
Dionex K2CO3 和 MSA 純化柱與溶劑不兼容
Dionex EGC（毛細管）純化柱在 0.010 mL/min 下與 1-30 μL/min (0.001-0.030 mL/min) 的流速范圍內支持的濃度范圍為 0.1–200 mM
Dionex EGC-KOH（毛細管）純化柱支持*高濃度為 25% 的甲醇
Dionex EGC-MSA（毛細管）純化柱與溶劑不兼容
適用于復雜碳水化合物的雙 EGC 模式
通過在雙洗脫液發生器純化柱（雙 EGC）模式下運行 Dionex ICS-6000 HPIC 系統來自動產生洗脫液梯度，以分析復雜碳水化合物。這種新選擇將甲磺酸 (MSA) EGC 400 純化柱和氫氧化鉀 (KOH) EGC 400 純化柱互相串聯使用，可產生重現性和準確性極高的 KOH/KMSA 洗脫液梯度來分析復雜碳水化合物（如低聚糖）。
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描述
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適用于
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部件號
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Dionex EGC III KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐
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傳統 RFIC-EG 系統（高達 3,000 psi）
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074532
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Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸鉀淋洗液發生罐
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Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統
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088453
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Dionex EGC III NaOH 氫氧化鈉淋洗液發生罐
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傳統 RFIC-EG 系統（高達 3,000 psi）
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074533
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Dionex EGC III LiOH 氫氧化鋰淋洗液發生罐
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傳統 RFIC-EG 系統（*高耐壓達 3,000 psi）
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074534
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Dionex EGC III MSA 淋洗液發生罐
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傳統 RFIC-EG 系統耐壓高達 3,000 psi
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074535
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Dionex EGC-KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐，毛細管型
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ICS-4000 毛細管 HPIC 系統和 Dionex ICS-5000+ 毛細管系統
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072076
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Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液發生罐，毛細管型
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ICS-4000 毛細管 HPIC 系統和 Dionex ICS-5000+ 毛細管系統
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072077
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Dionex EGC 500 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐
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Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統
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075778
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Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐
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Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統
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075779
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Dionex EGC 400 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐
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Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型系統可采用雙 EGC 模式
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302766
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